代表的な装置仕様

○ナノ粒子作製部
　高周波誘導加熱；５ｋｗ
○膜形成部
ノズル径＆本数；φ0.3mm、1本
基材駆動；X70mmxY70mmxZ40mm θ90度
○AGD機構付属

○ナノ粒子作製部
高周波誘導加熱；３０ｋｗ
○膜形成部
ノズル径＆本数；φ１mm、1本
基材駆動；X300mmxY150mmxZ30mm θ90度
○高純度Heガスリサイクルシステム付き

○高周波誘導加熱；10kw
○ノズル＆本数；φ0.8mm、1本
○基材駆動；80mmx80mm
○アーク加熱系付属

○ナノ粒子作製部（2式）
　抵抗加熱；650℃まで　　　　　　　　　　　
○膜形成部（グローブ機構付き）
ノズル径＆本数φ0.8mm、2本
　基材駆動；50mmx50mm
○有機ナノ粒子の機能膜形成用

○高周波誘導加熱；5kw
○ノズル；φ0.8m
○基材駆動；200mmx50mm
○AGD機構付属

○高周波誘導加熱；20kw、5kw
○基材駆動；100mmx150mm

○高周波誘導加熱；10kw
○ノズル；φ0.8mm
○基材駆動；100mmx100mm
○2系統の蒸発源あり