nano tech 2016 に出展しました
日時：2016年1月27日(木)～29日(金)
場所：東京ビックサイト　東６ホール
【ベンチャーパビリオン、小間番号：6N-25-06】
［展示説明の様子（写真）］

テーマ名：高い絶縁破壊電界強度を持ったナノ構造セラミックス成膜技術
サブタイトル：静電荷電が誘起するスパッタ現象による常温成膜技術
　　　　　　　（新規エアロゾル化ガスデポジション装置）
　　－関東経済産業局、戦略的基盤技術高度化支援事業(サポイン)の補助に基づく－