企業情報

ごあいさつ


 我々は、30年以上の長期にわたり、ナノ粒子および微粒子のノズル噴射による膜形成技術の研究開発を進めてきました。日本発のオリジナルなナノテク技術であるガスデポジション技術、エアロゾル化ガスデポジション技術の先駆者たる地位を固めるとともに長年の実績と人脈を基に、その技術発展に果敢に挑戦することを経営方針の一つと掲げ、品質安定な商品を顧客にタイムリーに供給すべく、当社は2004年に創業しました。エアロゾル化ガスデポジション装置をはじめ、ガスデポジション装置およびナノ粒子関連装置(カーボン系を含む)の事業を柱とし、それら装置の製造・販売を行なっています。幸いナノテクブームにも恵まれ、創業以来15期連続の黒字決算となっています。
 ベンチャー企業にとって特許戦略は重要と考え、創業時に有償譲渡を受けたガスデポジション関連の10件の特許にて優位性を担保し事業化を始めました。メーカーとして装置の製造・販売を推し進めると共に、研究開発にも力を注いだ結果、現時点で、新たな国内外の特許出願が42件となっています。一例となりますが、2011年2月に終了したNEDO実用化開発の成果の一つであるエアロゾル化ガスデポジションのジルコニア成膜技術の米国特許が2012年に権利化され、続いてKorea、China、そして日本での同権利化も果たしています。2014年には荷電粒子のAGD成膜技術、2019年には関東経済産業局のサポイン事業の成果である新規ターゲット方式AGD成膜技術が、日本、米国、Korea、Chinaで権利化され、欧州で審査中となっています。
 創業以来ナノ粒子を熟知した装置設計を行ない顧客の要求仕様に合わせ、多くのナノ粒子関連の設備納入を行なっています。また、顧客との技術開発、特に成膜技術の試作検討も国内外で積極的に進めさせていただいております。今後も最先端のナノ粒子関連装置の性能向上を目指し、技術開発に勤しむ所存でございます。今後も今までとかわりないご厚情、ご鞭撻のほどよろしくお願いいたします。

2019年3月
取締役社長 渕田 英嗣

会社概要

社名  有限会社 渕田ナノ技研
Fuchita Nanotechnology Ltd.
代表 取締役社長 渕田英嗣

本社/つくば事務所 [MAP] 
〒305-0822 茨城県つくば市苅間1561-3
   TEL 029-856-3935
成田事務所
〒286-0011 千葉県成田市玉造2丁目25番地57
   TEL 0476-27-3933
URL:http://www.nanotechepd.com
E-mail: infoの後に続けて@nanotechepd.com
設立    平成16年(2004年)5月20日
従業員数  4名
役員    取締役社長 渕田英嗣(工学博士)
取引銀行  みずほ銀行 千葉銀行 
資本金   300万円
事業内容  ①エアロゾル化ガスデポジション(AGD)装置の製造・販売
      [AGD;セラミックス微粉をガスと共に搬送しノズルから噴射させ
       緻密な膜を常温で形成する装置]
      ②ガスデポジション(GD)装置の製造・販売
      [GD;金属ナノ粒子の高速噴射による、低温・マスクレスの
       乾式直接描画装置]
      ③AGDおよびGDを使用した受託試作膜形成
      ④ナノ粒子関連装置の製造・販売
      [カーボンナノホーン、カーボンナノチューブ、メタルフラーレンなど]
工業所有権 国内外の保有特許等、22件
      エアロゾル化ガスデポジション装置、ガスデポジション装置などの特許
研究開発  平成29年度第2回ベンチャー企業等による新エネルギー技術革新支援事業(NEDO)
(公的資金) 平成26年度戦略的基盤技術高度化支援事業(関東経済産業局)
      平成21年度イノベーション実用化開発費助成金(NEDO)
受賞    公益財団法人ひまわりベンチャー育成基金賞(第17回千葉県ベンチャー企業経営者表彰)
      2015年粉体粉末冶金協会賞受賞(技術進歩賞)
      ・第43回(2017年度)発明大賞の考案功労賞受賞(日本発明振興協会)
      ・第30回中小企業優秀新技術・新製品賞 奨励賞受賞(りそな中小企業振興財団)
      ・第53回機械振興賞 審査委員長特別賞受賞(機械振興協会)
取引先   金属・電気・化学・自動車メーカー、公共機関の研究所、
      大学(国の入札資格取得)、真空機器の製造メーカーおよび商社等

納入先企業・大学・官公庁名(五十音順)

納入先企業・大学・官公庁名(五十音順) ◆2019年3月29日現在◆


◆株式会社IHI           ◆アイシン精機株式会社
◆旭化成株式会社           ◆株式会社アルバック
◆出光興産株式会社          ◆NTN株式会社
◆オムロン株式会社          ◆カシオ計算機株式会社
◆神奈川県産業技術センター      ◆キヤノン株式会社
◆国立大学法人九州大学        ◆京セラ株式会社
◆京セラキンセキヘルツ株式会社    ◆共和電業株式会社
◆慶応義塾大学            ◆小島プレス工業株式会社
◆コニカミノルタオプト株式会社    ◆株式会社サムスン日本研究所
◆独立行政法人産業技術総合研究所   ◆山陽特殊製鋼株式会社
◆三洋電機株式会社          ◆JFEスチール株式会社
◆国立大学法人静岡大学        ◆シチズン時計株式会社
◆芝浦工業大学            ◆国立大学法人島根大学
◆信越化学工業株式会社        ◆シンガポール大学
◆新日鐵住金株式会社         ◆昭和電工エレクトロニクス株式会
タンレー電気株式会社       ◆住友金属鉱山株式会社
◆住友電気工業株式会社        ◆セイコーエプソン株式会社

◆太平洋セメント株式会社       ◆大日本印刷株式会社
◆株式会社秩父富士          ◆国立大学法人筑波大学
◆テクダイヤ株式会社         ◆株式会社テクニスコ
◆株式会社デンソー          ◆国立大学法人東京大学
◆株式会社東芝            ◆東芝テック株式会社
◆東芝マテリアル株式会社       ◆東ソー株式会社
◆同志社大学             ◆東洋アルミニウム株式会社
東洋製罐グループ綜合研究所     ◆TOWA株式会社
◆東洋精密工業株式会社        ◆東洋炭素株式会社
◆東レ株式会社            ◆トヨタ自動車株式会社
◆株式会社豊田中央研究所       ◆長野県工業技術総合センター
◆国立大学法人名古屋大学       ◆日亜化学工業株式会社
◆日産自動車株式会社         ◆日新製鋼株式会社
◆ニッタ株式会社           ◆日本ガイシ株式会社
◆日本電気株式会社          ◆日本電気硝子株式会社
◆株式会社JEOL RESONANCE     ◆日本発条株式会社
◆パナソニック株式会社        ◆パナソニックコミュニケーションズ株式会社
◆パナソニック電工株式会社      ◆株式会社半導体エネルギー研究所
◆日立金属株式会社          ◆株式会社日立製作所
◆日立電線株式会社          ◆一般財団法人ファインセラミックスセンター
◆株式会社富士通研究所        ◆富士フイルム株式会社
◆富士通株式会社           ◆富士電機株式会社
◆富士電機アドバンストテクノロジー株式会社
◆株式会社フジミインコーポレーテッド ◆独立行政法人物質・材料研究機構
◆HOYA株式会社          ◆ホンダエンジニアリング株式会社
◆株式会社本田技術研究所       ◆本城金属株式会社
◆松下東芝映像デスプレイ株式会社   ◆株式会社みくに工業
◆三井金属鉱業株式会社        ◆三菱重工業株式会社
◆三菱電機株式会社          ◆株式会社名城ナノカーボン
◆山梨電子工業株式会社        ◆国立大学法人横浜国立大学
◆Apple inc.             ◆QuantumScape Corporation
◆Huawei Technologies Japan K.K.